产品名称：	MHY-20010 凯氏定氮仪
产品型号：	MHY-20010
品牌：	623
产品数量：
产品单价：	面议
日期:	2024-04-17

MHY-20010 凯氏定氮仪的详细资料

1：自动凯氏定氮仪(含20孔消化炉)/凯氏定氮仪 型号；MHY-20010 

能特点：1.MHY-20010 凯氏定氮仪，采用微电脑行过程控制，包括手动模式和自动模式，可根据您的需要自行设定和切换：自动模式下：次成加碱、加硼酸、蒸馏，氨气吸收整个过程，加硼酸和加碱的体积以及蒸馏和吸收过程的时间都可以自行设定。人模式下：加硼，加碱 和蒸馏吸收三个过程可以单人操作，体积，时间自行控制，满足专业用户需求。2.大屏幕点阵式液晶显示，中文菜单，触摸式按钮，操作简捷方便。3.自动式蒸馏控制、自动加水、自动水位控制、自动停水和水压过低报警。 4.各种安保护：消化管安门装置，蒸汽发生器缺水报警。5.可存储操作程序。6.仪器外壳采用特制喷塑钢板，作区域采用ABS防腐板及不锈钢底板。7.防化学试剂腐蚀和机械损坏表面，耐酸耐碱。
8.水位检测、低水位报警，自动断电。
9.标配里不含消化炉，消化炉为选配，建议选择C型消化炉。
术参数： 测定品种：粮食、食品、乳制品、饮料、饲料、土壤、水、药物、沉淀物和化学品等； 作方式：自动（不含滴定）
水方式：自来水、蒸馏水两种水方式，使用区域广泛样品量：固体5g/样品；液体15ml/样品测定范围：0.1mgN～200mgN(毫克氮)（含氮量0.02% ～ 95%）； 回收率：100±1%（相对误差，包括消化过程）； 蒸馏速度：＜5分钟/样品 冷却水消耗：2L/分钟 重复率：相对标准偏差<±1% 供电：AC 220V/50Hz供水：水压大于0.15MPa；水温小于20度 外形尺寸：430*360*760mm重量：30kg
自动型凯氏定氮仪可选配不同孔数的消化炉：数显消化炉有4孔、8孔、12孔、16孔、20孔可选。可根据用户的检测量的大小选配，消化批样品约需40分钟左右(依含氮量而定)。消化内逸出的SO2等有害气体通过凯氏定氮仪上的排污管经抽气三通从水中排入下水道。

 

 

 

 

2：超声波清洗机/超声波清洗仪  型号；MHY-20003

洗方式

超声波的特长因频率不同而异。洗（Dynashock）方式是应用了3种不同的频率（28KHz，45KHz，100KHz）的综合清洗。籍由三种不同频率的连续速变化，驻波的位置发生移动，因而能够均匀且快速地清洗。本机能够对件行强力清洗而对件损伤很小。并且能够减少振动板的空化侵蚀，而延长清洗槽的使用寿命。

在洗里会产生脉冲波，从而产生无数的次谐波，能够清洗形状错综复杂的件。

除泡/散泡效果

频率100KHz的超声波有去除气泡，扩散气泡的效果。从而防止超声波的衰减，保持槽口上面的超声波强度不衰。

超声波清洗机主要由超声波信号发生器换能器及清洗槽组成。超声波信号发生器产生频振荡信号，通过换能器转换成每秒几次的频机械振荡，在清洗液（介质）中形成超声波，以正压和负压频交替变化的方式在清洗液中疏密相间地向前辐射传播，使清洗液中不断产生无数微小气泡并不断破裂，这种现象称之为“空化效应”。气泡破裂时可形成1000个大气压以上的瞬间压，产生连串的炸释放出巨大能量，对周围形成巨大冲击，从而对件表面不断行冲击，使作表面及缝隙中的污垢迅速剥落，从而达到件表面净化的目的。

超声波清洗应用范围非常广泛，主要应用于机械、电子、光学、药、电镀、涂装及真空镀膜前处理等行业。特别适用于表面形状复杂的零件，如对件上的狭缝、凹槽、深孔、肓孔的清洗，同时能够清洗掉零件表面油污、锈蚀及氧化皮。特别对制药行业各种玻璃制器及内外科器械的清洗效果为理想，不仅能达到清洗的目的，还能对玻璃器皿内外壁附着的各种微生物、病菌起到粉碎作用，达到清洗消毒灭菌的作用。

 

 

 

 

3： 浸渍提拉涂膜机 提拉机    型号；MHY-20001

. 产品应用 
    本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中，通过预设置的浸渍时间、提拉速度、提拉度、镀膜次数等参数，将浸渍后的基片以定速度慢慢提拉起来，在基片的表面形成层纳米的薄膜。膜层厚度由提拉速度，液体浓度和液体粘度决定。 
    采用溶胶-凝胶法镀膜，随着基片从溶胶中提拉出来，在基片上附着层膜，称为“湿凝胶膜”，随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发，膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过步的干燥及温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。

二. 产品简介 
    浸渍提拉镀膜机是专门为液相（特别是sol-gel法）制备薄膜材料的研究作而设计，对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉度、浸渍时间、镀膜次数（多次多层镀膜）、镀膜间隔时间均连续可调、控制。对镀膜基质无特殊要求，片状、块状、圆柱状等均可镀膜。运行稳定、作时液面无振动，可大提实验度与实验效率。 
    适用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面涂覆艺。应用于科学研究、产品生产。

三. 产品特点 
1. 采用的C4传动装置；
2. 关键零件来自台湾及日本口；
3. 多参数自动控制；提拉速度连续可调；
4. 4.3寸液晶触摸屏使控制更方便；
5. 、低速均运行平稳，无振动，使成膜更均匀；

四. 术参数
. 提拉速度范围： 1 ～ 6000 μm/s ，小分辨率 1μm/s ；
2. 速度度： -0.02% ～+ 0.02% ；
3. 大行程：约 200 mm ；
4. 可镀膜基片尺寸： MIN 10×10 mm ， MAX 100×100 mm ，厚度 MAX 10mm ；
5. 浸渍时间： 1 ～ 3600 s ，小分辨率 1s ；
6. 循环镀膜次数： 1 ～ 1000 次，少 1 次；
7. 循环镀膜间隔时间： 1 ～ 3600 s ，小分辨率 1s ；
8. 电源： 220V/50Hz ；

 




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